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集束イオンビーム加工装置

メーカー名 日本エフイ-・アイ 株式会社
メーカー
商品名/型式
集束イオンビーム加工装置 / Versa 3D Dual Beam
性能・仕様 電子線分解能: 1.2nm, 入射電圧: 50V-30kV, 最大プロ-ブ電流: 200nA, イオンビ-ム分解能: 7.0nm, 入射電圧: 500V-30kV, プロ-ブ電流: 1.5pA-65nA, 分析可能元素: B ~U, 保護膜: Pt のみ, その他の装備:BSE検出器, STEM検出器, OmniProbe
用途 金属材料、セラミックス材料、高分子材料など固体材料の断面加工、薄片化加工、および、その元素分析(定性、定量、線分析および面分析)他。
対象試料 金属材料、セラミックス材料、半導体材料、高分子材料など。(真空中で安定で、電子線により分解しないもの。)
利用料金 10,000円/時間
機器利用
研修費
受講料5,000円
設置場所 神戸
注意事項
設置年月 2012年10月
担当部署 材料・分析技術部 無機材料グループ
業務コード 3011820

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